二手 SEMITOOL WSST-806A #9269858 待售
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ID: 9269858
晶圆大小: 8"
Water soluble strip system, 8"
Designed to strip photoresist
With water soluble based (NMP) strippers then do Isopropal rinse and dry
280 Matted bowl (Max size 8" wafers)
(2) Heated NMP tanks
(2) Non-heated Acetone tanks
(2) Non-heated IPA tanks.
SEMITOOL WSST-806A是一种光刻设备,设计用于处理制造半导体元件的单晶圆和多晶圆应用。它具有一个电动浸入式卡盘,温度控制范围为-20°C至+75°C,中心线高度可调。该系统配有高分辨率运动单元以及步进电机控制器,以便在所需高度和角度精确定位晶片。该机还具有高速自旋电机和温度传感器,用于精确的时间和温度控制。光致抗蚀剂工艺通过化学和蚀刻工艺使用掩蔽图样从给定的材料创建设备。在这个特殊的工具中,光致抗蚀剂被应用到晶片上。所施加的光致抗蚀剂可以暴露于紫外线辐射或激光,其蚀刻到光致抗蚀剂的暴露区域。然后删除暴露的区域,留下定义的模式。为了产生可靠和可重复的结果,光刻胶的时间和温度必须在整个过程中得到准确的控制。SEMITOOL WSST806A资产旨在为光刻胶处理提供精确、一致可重复的环境。它具有高达2885 RPM的自旋速度,允许光刻胶曝光的优化时间和温度。该模型还具有高分辨率、电动浸入式卡盘,温度调节为-20°C至+75°C,可重复结果。此外,设备还配备了编码器接口,可以精确控制晶圆的中心线高度。WSST-806A系统是半导体制造商创建具有可重复过程的复杂半导体组件的有效工具。其机动化浸入式卡盘和自动化单元参数提供准确一致的成像结果。高速自旋电动机和温度调节提供可靠的光致抗蚀剂曝光,确保一个或多个晶片的可靠和可重复的处理环境。
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