二手 SEMITOOL WST-306MI #142239 待售

SEMITOOL WST-306MI光刻设备是一种先进的光刻系统,旨在提供精确的处理解决方桉.它使用紫外线和光反应性材料在半导体基板和其他材料上创建结构。该装置是一个两臂机器，有两个单独的罐体，一个用于处理，一个用于冲洗，并且有能力在暴露期间测量和控制紫外线剂量和聚焦水平。WST-306MI光刻机具有高分辨率的步进对准阶段，具有粗糙和精细的控制。步进器的高度稳定对准重复性为± 1.5 μ m,步长为0.1 μ m。它使用1、2和4个曝光点,具有从全场曝光到超硬边曝光的一系列曝光设置,分辨率高达0.5 μ m。紫外线照射曝光时间可在10秒至10分钟之间。SEMITOOL WST-306MI工具提供了先进的过程控制、自动化和安全性,如抗燃烧、抗滑动、剂量监控和实时曝光控制。该资产还有一个集成晶圆处理模式，内罐、卡带到卡带，以及原位加载、卸载和映射处理模式。设备先进的污染控制系统可以进行可重复的清洁和去离子冲洗，对基板有轻微伤害，同时保持较低的总成核计数。物料处理单元，加上防排水、防爬坡和智能清洁算法，确保颗粒水平保持在颗粒水平和清洁的行业标准之内。WST-306MI光刻机设计精密、可重复性和过程控制，是各种光刻应用的理想选择。它为所有需要微米级细节和高精度的项目提供了高效、安全和经济高效的解决方桉。SEMITOOL WST-306MI具有独特的特点，使其成为先进半导体制造和其他纳米技术应用精密光刻工具的理想选择。