二手 SEMITOOL WST-406MG #35587 待售
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ID: 35587
晶圆大小: 4"
优质的: 2000
Wet solvent stripper, 4"
Strip photoresist with water soluble based (NMP) strippers
(270) Electropolished bowls: Maximum 6" wafers product
Brushless motor
Fire suppression
No tanks
Remote chemical cabinet
(2) Tanks:
Fresh PRS1000
Reclaim PRS1000
Power: 208VAC, 60 Hz, 30 Amps, 5 Wire
BAKER PRS 1000 Positive photoresist tripper
Accessories:
Chemical delivery module
Dual heated chemical tanks, 6 Gal
Dual chemical pumps
Chemical waste tank with pump
Dual chemical filters
Features:
Front loading with on-axis spin
Self-contained fluid dispensing and recirculation
Surfaces: Stainless steel or Teflon coating
Spray and atomizing manifolds for fluid deliver
Microprocessor controlled process
Rotor installed for 150mm, P/N: A194-60MB-0215
Sub-system: Chemical cabinet
SEMITOOL Graphic controller display screens
Power supply: 208 VAC, 50/60 Hz, 30 Amps, 3-Phase.
SEMITOOL WST-406MG是一种最先进的光刻设备,设计用于湿法加工,例如清洁环境中晶片的清洁、蚀刻和镀层。该系统通过自动反馈循环控制潮湿过程的温度、浓度和持续时间，使用户能够获得可重复的高质量结果。WST-406MG是一个模块化单元,可以轻松配置以满足各种流程的需求。它具有通过先进的数字加热和冷却机来控制温度的特点，该机保持在20°C至80°C之间的精确和一致的温度范围。该工具还能够用pH计和滴定调节器精确控制光刻胶溶液的浓度。SEMITOOL WST-406MG还具有广泛的自动化过程控制功能,允许用户对易于调整的精确定时过程进行编程。这种灵活性使用户能够轻松地使资产适应其特定要求。该车型还具有自动关闭、流体泄漏检测等集成安全功能，防止事故发生，确保洁净室环境提供安全运行。WST-406MG有一个高容量、精确的自动晶片处理设备，可以在单个处理周期内执行多达16个晶片，最大晶片直径为200毫米。自动化处理系统可确保可重复的结果和最小的停机时间。SEMITOOL WST-406MG还提供具有数据记录功能的流程监控,允许用户实时记录和分析其流程的性能。此功能对于故障排除和提高最终结果的质量至关重要。总体而言，WST-406MG是一个先进的柔性湿处理装置，能够生产出非常高质量的光刻晶片。它的自动化操作和集成的安全功能保证了一致的结果,并减少了操作员的干预,使其成为在要求苛刻的清洁环境中使用的理想选择。
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