二手 SEMIX Opus 2/3 #293650490 待售

SEMIX Opus 2/3
製造商
SEMIX
模型
Opus 2/3
ID: 293650490
晶圆大小: 8"-12"
SOG Track, 8"-12" Temperature: 25°~130°C.
SEMIX Opus 2/3是一款光刻设备,设计用于生产具有最小缺陷的光滑、高分辨率设备。它由全球领先的先进光刻技术提供商SEMIX公司制造。该系统提供20 nm及以上的高端光刻性能和功能尺寸。它由两个主要组成部分:Optic Pro工具和晶圆管理单元(WMS)。Optic Pro是SEMIX Opus 2/3机器的主要组件,负责将高分辨率图像带入晶圆。它具有独特的光学元件阵列,可协同工作,在晶圆上创建所需图样的高对比度图像,然后进行帧移图像。另一方面,WMS是工具的平衡和控制组件。它提供了Optic Pro和晶片之间的物理接口,管理光刻过程所需的化学品、机械运动和其他环境条件的流动。它利用先进的控制系统来监测和调整温度、压力、光线照射等各种参数,以确保准确性和可重复性。SEMIX Opus 2/3资产流程开始于将光敏的光聚合物层称为光抗蚀剂应用于硅片。应用此层后,Optic Pro工具将通过多级衍射光学器件将所需阵列的掩码投射到晶片上。当光线通过此模式时,它将根据设计要求被阻挡或传输。任何阻挡光线的区域都将受到开发人员解决方桉的保护,并且保持未蚀刻状态。晶圆的其余部分将被冲走,只留下所需的图桉。下一步是冲洗过程。在这里,不希望的抗蚀层被冲洗掉从晶圆,留下一个清脆,干净的图案。然后用专门的干式/湿式试纸工具剥离抗蚀剂。最后,将制备的晶片切成所需的器件结构并检查是否有缺陷。SEMIX Opus 2/3是一种高效、精确的光刻胶模型,能够生产出缺陷最小的高质量微设备。它非常适合以市场上最具创新性的材料生产出最优秀的设计。
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