二手 SEMIX / TOK TD6133UD #293657151 待售

SEMIX/TOK TD6133UD光刻设备是为开发先进的光掩模应用而设计的。该系统采用使用石英光学蚀刻单元设计的抗蚀剂蚀刻图样，允许高精度和分辨率。机器使用反应性离子蚀刻工艺创建蚀刻图样，确保了高性能和可靠性。该工具非常适合用于各种光掩模生产领域。该资产采用石英光学蚀刻模型，配备350瓦高能灯，可精确蚀刻顶级电路。该设备采用高功率激光标线笔迹设计，允许以最高精度和小激光点制作小几何形状和光掩模图桉。系统还有一个高分辨率的图像处理器，它允许对标线和光掩模进行优化，以实现目标光阻粘附。TOK TD6133UD光刻装置有一个MAX-8的MICRO处理器,它针对快速蚀刻和成像以及光掩模的测量和表征进行了优化。该机器还允许利用具有不同分子量或组成的光刻胶来提高光掩模的质量和性能。该工具的设计具有很高的蚀刻和成像重复性，确保了生产和质量的一致水平。SEMIX TD6133UD资产实现的最大分辨率为28 nm。它在10-4 Torr的真空状态下运作，最大沉积或蚀刻速率为10 nm/s。该模型与PCR和OMI兼容，具有最小沉积厚度0.2 nm的抗蚀剂保形沉积。该设备还具有激光烧蚀能力，具有高精度的亚微米级地层。综上所述，TD6133UD光刻胶系统是为开发先进的光掩模应用而设计的。该单元使用石英光学蚀刻机和反应性离子蚀刻工艺进行蚀刻图样。它具有MAX-8 MICRO处理器,最大分辨率为28 nm,最大沉积或蚀刻速率为10 nm/s。该工具还具有高分辨率的图像处理器，可以优化标线和光掩码。此外，该设备具有激光烧蚀能力，具有高精度和PCR和OMI兼容性。