二手 SEZ / LAM RESEARCH 4300 #293587004 待售

SEZ/LAM RESEARCH 4300光阻设备是一种革命性的工具，设计用于半导体晶圆加工、微电子器件制造和其他精密操作等应用。该系统配备了生产级200 mm Class 1光刻工具。它支持快速的单元操作、精确的抵抗暴露和出色的分辨率,以及灵活性和可扩展性。SEZ/LAM4300有一个晶圆处理机，由离子植入器和电子束蒸发器组成。这允许精确抵抗应用和配置文件修改,这两者都可以在不同大小的基板上成功执行。该工具允许多个曝光设置,这些设置可以根据项目的确切要求进行自定义。MaximusTM软件套件还可用于监视和控制资产,从而确保可重复进程具有一致的抵抗性能。该模型采用了由FOUP（前开式统一吊舱技术）技术组成的强大的光学设备，是为高通量运行而构建的。FOUP使得晶片能够在其内部载流子和DPS（直接等离子喷雾器）之间快速转移。DPS是一种300 mm兼容的光刻工具，聚焦离子束以精确蚀刻抗蚀剂。MaxEtch工具套件与DPS集成在一起,可以快速轻松地调整曝光参数。LAM RESEARCHY/LAM SEZ 4300还具有一组高级功能,如深入的曝光配方库和预设的抗蚀剂配置文件。它允许完全定制蚀刻过程,包括图样和统一蚀刻。该系统还具有Endura Interface,它旨在提供对多路功能的访问,并支持批量生产。最后,SEZ/LAM RESEARCHY/LAM LAM RESEARCH 4300光阻装置配合全球服务和支持,符合SEMI S2、J-STD-001和IEC60881等合规标准。