二手 SEZ / LAM RESEARCH 4300 #293652063 待售
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ID: 293652063
优质的: 2006
Spin processor
Filter fan unit
CO2 Gas supply
No robot
2006 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH 4300光刻设备是用于半导体制造加工的专用工具。该系统利用光刻，这一过程涉及将所需的图样从掩模转移到半导体基板上。SEZ 4300单元设计用于在基板上快速、准确地生产光敏涂层。LAM RESEARCH 4300机采用高功率光源和快门曝光台。此曝光阶段利用LED二极管阵列,阻止和解除对基板的曝光。这个曝光阶段非常精确，分辨率为15微米，可重复性为+/-3微米。曝光阶段也设计得极快，快门速度高达50微秒。4300因其最低限度的维护要求而得到增强。该工具具有内置的清洁资产，并使用真空卡盘进行晶圆处理。这消除了手动清洗步骤，减少了污染的可能性。SEZ/LAM RESEARCH 4300型号还具有前置旋转涂层组件。组件在基板上提供一致、均匀的光刻胶涂层。自旋涂层组件最大限度地减少浪费，防止形成不均匀的涂层厚度，保持低光刻成本。SEZ 4300设备包括一个基于PC的软件包，可以配置为执行特定的流程和配方。该软件与LAM RESEARCH 4300的精密组件一起，提高了生产的可重复性和速度，确保了更高质量的光敏涂层。总体而言，4300光致抗蚀剂系统是一个先进和可靠的单元，旨在快速和精确地在基板上制造光致抗蚀剂涂层。机器的快速曝光速度和精确的曝光控制产生一致的和可重复的光刻胶模式与最低限度的维护要求。这使得SEZ/LAM RESEARCH 4300成为半导体生产的宝贵工具。
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