二手 SEZ / LAM RESEARCH 4300 #293662192 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 293662192
优质的: 2006
Spin processor
Filter fan unit
CO2 Gas supply
No robot
2006 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH 4300光刻设备是为开发高端半导体器件而设计的最先进的光刻系统。该装置具有一个大的、高分辨率的数字掩模对准器，数值孔径为0.5，场径为12.7微米，非常适合设备制造。该机还包括一个用于沉积光刻材料的高精度、自清洁分配单元和一个用户友好的软件套件来控制整个过程。该工具采用多步骤工艺来沉积和绘制光刻材料。首先，在基板上分配一层光致抗蚀剂，然后用计算机引导的激光将光致抗蚀剂材料暴露在所需的图样上。接下来，基板被暴露在强烈的紫外线下，以便使暴露的光致抗蚀剂材料变硬。最后，对底物进行一系列的化学处理，以提高最终模式的分辨率。SEZ 4300旨在为设备制造提供卓越的分辨率和准确性。该资产符合行业标准的光刻胶协议，可支持负极和正极光刻胶轮廓要求。该模型还提供了同时执行晶圆级和芯片级光刻以及相同模式的多次运行的能力。LAM RESEARCH 4300设备确保了一致和可重复的处理。该系统具有内置的数据记录功能,可用于监视流程参数和确保一致性,以及检测任何超出公差的条件。此外,该单元还配备了精密但易于使用的功能,可简化蚀刻、光刻和沉积过程。总体而言，4300是制造先进半导体器件的理想选择。凭借其高分辨率的图像处理能力、健壮的分配单元和先进的软件套件，该机器可以为最苛刻的光刻应用提供经济高效的解决方桉。
还没有评论