二手 SEZ / LAM RESEARCH 4300 #293662196 待售
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SEZ/LAM RESEARCH 4300是专为在半导体晶片上创建亚微米模式而设计的光阻设备。它是一个两阶段的过程，从光刻开始，将光聚焦在覆盖着一层薄薄的光刻胶的半导体晶圆上。这个过程在表面上创建了一个裸露区域的图样，然后可以开发并蚀刻到晶圆的基板上。这一过程的第二阶段，称为曝光后烘烤（PEB），涉及利用热量促进晶圆上永久模式的形成。SEZ 4300是一个全自动系统，具有先进的光学单元，以确保光刻胶在半导体晶片上的精确曝光。它利用高分辨率的光刻标线来确保电路元件的极精确的阵列。它还具有独特的排气机，最大限度地减少氧气的进入，以改善表面对比度的发达抵抗模式。LAM RESEARCH 4300专为高精度应用而设计，如口罩制造、光电器件、微电子处理等。它配备了最新的技术和统计过程控制，以确保光刻、开发和蚀刻过程中晶圆的一致性。它还具有易于操作的用户友好界面。4300是一种设计用于半导体制造的强大光刻工具。它提供了高精度的图桉，出色的表面对比度开发的抗蚀剂图桉，以及简化的用户界面，以便于操作。这种光致抗蚀剂资产是为半导体产品制作复杂先进设计的重要工具。
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