二手 SEZ / LAM RESEARCH 4300 #9211221 待售

SEZ/LAM RESEARCH 4300光敏设备是一种高性能、大容量、自动化的光敏系统，设计用于光敏材料和光敏材料的沉积。它具有先进的特性，为沉积过程中的光刻过程提供精确的控制。该单元包含两个独立的处理室，为多种光刻胶和光掩模材料提供先进的预处理、烘烤和后处理能力。SEZ 4300 Photoresist Machine具有全尺寸8 "x 8"沉积室，具有可移动的级，允许精确和可重复的光刻层厚度。此阶段可以使用计算机控制软件包手动或自动操作。该工具还包括一个Linkam加热/冷却阶段（LHS），它创造了一个统一的加热环境，以实现最佳的光阻过程控制。LAM RESEARCH 4300具有一个用于精确基板处理的全自动机械臂和一个用于监测和控制光刻胶层厚度的闭环反馈资产。它还包括用于精确校准和精确控制光刻胶层厚度的标准化校准模型。4300还配备了先进的工艺控制仪器，如用于基板平坦度和表面粗糙度测量的激光束剖面仪和用于在线监测光刻胶成分的质谱仪。SEZ/LAM RESEARCH 4300设备为各种基材和基材尺寸提供了高通量率和高产光致抗蚀层。它还与多种光掩模材料兼容，可用于控制和调整掩模以达到基板配准精度。该系统包括一个高度可配置的用户界面,以便于与现有生产环境集成。SEZ 4300光刻装置是一种先进的、高性能的光刻沉积机，非常适合工艺开发、生产和研究应用。该工具提供了沉积过程中光刻胶工艺的精确控制，并为光刻胶和光掩模材料提供了均匀的沉积层。该模型具有先进的自动化、闭环反馈、标准校准资产和内置的安全特性，可提供高通量和高屈服率的精确可靠的光敏沉积。