二手 SEZ / LAM RESEARCH Gamma GXT #9226988 待售
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ID: 9226988
晶圆大小: 12"
优质的: 2015
Photoresist stripper, 12"
MFC: HORIBA Z500
Gases:
O2: 10000 SCCM
N2: 10000 SCCM
CO2: 2000 SCCM
CF4: 100 SCCM
AR: 3000 SCCM
4%H2/N2: 10000 SCCM
H2: 5000 SCCM
NF3: 50 SCCM
NH3: 5000 SCCM
ENI GHW-50 RF Generator
MPD
Load port
2015 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH Gamma GXT是一种光阻设备,用于完成掩模制造、图样传输和其他敏感过程等应用,这些应用要求精确控制光刻材料薄层暴露于光源的情况。它是专门为生产和研发模块配置生产可靠的加工和优化产量而设计的。该系统具有专有的软件、控件和硬件,SEZ专门为其预定的应用程序量身定制。在其核心，一个SEZ Gamma GXT型光抗蚀剂单元通过有效地将薄层的可光处理材料暴露在入射紫外线（UV）光束或电子束中来改变其化学结构或性质来发挥作用。它通常由一个抗蚀剂涂层、一个光致抗蚀剂显影剂、一个光源、一个透镜机和一个晶片级组成。LAM RESEARCH Gamma GXT的抵抗涂层负责在图样前在基板上涂抹一层均匀准确的光层。这是通过使用特殊的涂层头来实现的，这种涂层头可产生实心膜，可通过手动参数和用户可调参数的组合来精确控制。接下来，晶片被放置在一个电动舞台上，并移动到光刻胶显影剂上。在这种情况下，溷合和化学溶液会溶解光致抗蚀剂的暴露部分，从而形成所需的图样。开发人员要求用户以极高的精度管理循环时间和温度等过程参数，以便创建具有严格公差的精确模式。光源是任何典型伽玛GXT工具的关键组成部分，负责晶片暴露于紫外线。它可以配置为匹配所需的目标波长、脉冲长度和能级设置。由聚焦元件、透镜和反射镜以及快门资产组成的先进光学组件负责将光引导到晶片级。这样可以确保光处理材料的选定区域只能暴露在光线下,而其他区域不受影响。最后,晶片级在曝光过程中牢固地固定基板的位置,并且必须与模型中所有其他组件的移动同步。SEZ/LAM RESEARCH Gamma GXT系列提供灵活、可调的舞台，具有广泛的运动能力，以满足不同的处理需求。总体而言,SEZ Gamma GXT旨在在高容量光阻应用过程中提供精度、准确性和可靠性。它拥有先进的自动化功能、优化的处理质量和卓越的环境管理,使其成为满足大多数光掩模生产和开发要求的可靠解决方桉。
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