二手 SIPREL TR 15 #9287735 待售

SIPREL TR 15是用于微电子和MEMS器件开发的一种特殊类型的光阻技术。该技术由强、耐化学、高性能的光敏树脂和先进的显影剂溶液组合而成。用于TR 15的感光树脂是用专有添加剂和辐射敏感化合物配制的。它在暴露过程中表现出极佳的干蚀蚀性，对大多数基材的附着力极佳，收缩和紫外线反射较低。这种树脂的关键特点是其高附着力和暴露于辐射中。这使得光刻胶设备适合于多种不同类型的高性能微电子应用。SIPREL TR 15光刻胶系统兼容许多常见的发展溶剂，包括温DI水、IPA、NMP。光致抗蚀剂可抵抗多种非挥发性化学物质，包括醇、石油蒸馏物和碱。制备了对紫外线不敏感、无腐蚀抑制剂的显影剂溶液，以实现快速、高分辨率的显影，表面磨损最小。光致抗蚀剂与大多数标准阈值曲线兼容，抵抗大多数种类的酸，包括氢氟酸和硫酸。该装置还被设计为具有高纵横比的可靠光刻性能。尽管光刻机与广泛的制造工艺高度兼容，但在极端环境下，如高温和应力情况下也表现出优越的性能。就其光掩模兼容性而言，TR 15光致抗蚀剂被设计成能够与正负光掩模图桉配合使用。无论使用何种辐射频率或剂量,该工具的结果都是一致的。此外，当暴露于不同强度的紫外线时，该资产还提供了更好的附着力和更好的分辨率。总体而言,SIPREL TR 15非常适合需要高性能光刻系统的应用。该技术具有出色的分辨率、抗辐射性、耐干蚀刻性和附着力,以及与各种基材和化学处理的兼容性。因此，该模型在许多微电子、MEMS和其他制造应用中得到了广泛的应用。