二手 SOLITEC 5110-D #9270248 待售
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ID: 9270248
Coater / Developer system
Size: 8 mm
Substrate sizes: 9" Round x 6" Square x 9" Diagonal rectangular
Time: Variable from 1-999 seconds in 1 second increments
Plug-in modules
Acceleration: 1,000-40,000 RPM/s
Spin speed control: ±10 RPM
SOLITEC Diaphragm dispense pump
Single chuck for wafers, masks or substrates
Backsplash control: Downflow exhaust system
N2 Motor purge and interlock
Vacuum interlock on wafer chuck
(5) Gallons drain buckets with exhaust
Closed loop servo speed control for tight process control
Polypropylene waste container
Digital tachometer with direct optical encoder
Solvent dispense before coating
N2 Blow-off
Applications:
Positive resist coatings on wafers, masks and substrates
Negative resist coating on wafers, masks and substrates
PMMA and E-Beam resist coating
Silicon, GaAs, InP and other semiconductor materials
Polyimide coatings on wafers, masks and substrates
Photosensitive polyimide coating
Multi-layer resists.
Includes:
Wafer chuck and loading paddle
Operations manual.
SOLITEC 5110-D光刻设备是一种用于创建集成电路的光刻工具。该系统旨在使制造商能够精确高效地创建纳米级结构。该单位利用三通道光源和先进软件来适应复杂的工艺要求，包括各种掺杂浓度和暴露时间。光刻系统由几个部分组成，这些部分对于基材的光刻加工是必不可少的。光源是第一部分，负责在365 nm、405 nm、436 nm三个频段发射紫外线。然后，这种光被一组透镜收集，并使用标线聚焦到样品上。标线由计算机控制，负责提供基板的关键图样。该机还可以与电子束光刻工具配合使用，从而可以进一步细化图桉。除了SOLITEC 5110D的直接阵列设计功能外,还有其他功能使其非常适合生产级纳米级结构。可以自动进行曝光和制图，从而无需手动调整光源。此外，它还有一个集成的晶圆步进器，这样可以减少使用多个基板时的启动时间。为了安全起见，该工具还包括一个紧急关闭开关。为了控制制图过程，可以使用复杂的软件来操纵众多参数，包括曝光时间、强度、占空比等。该软件基于经典的生产级算法，允许对整个光刻胶工艺进行精确控制。此外,还可以对软件进行校准,以精确定位基板上的抗蚀层,从而减少晶圆未对准造成的资源浪费。总体而言，5110-D是生产微型和纳米结构的宝贵工具。它具有可调的三通道光源和集成的晶圆步进器，非常适合生产级纳米加工。随附的事故截断开关为用户提供安全保障。此外，复杂的软件解决了许多复杂的模式，减少了需要手动调整光源。这一点，加上其精确的图桉能力，使其成为生产高品质纳米结构的理想选择。
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