二手 SRD CT-303 #9301058 待售

SRD CT-303是一种用于半导体器件制造的光刻设备.该系统建立在常规的负性光刻材料的基础上，这种材料暴露在紫外线下，形成了一个被转移到基板上的图样。CT-303单元利用了两种液体成分，一种是光活性的，另一种是无活性的显影剂，可以灵活地形成精细的公差，微妙的表面细节和复杂的图样。光活性成分是一种光敏丙烯酸聚合物，由SRD配制而成，具有特定的分子量，可实现精确的抗厚度控制、优越的分辨率和更高的对比度图像。这种光活性材料通过阻光屏障与非活动显影剂分离，产生了一种机器，它允许暴露于可快速调节的紫外线下的时间。一旦确定了曝光和重新分布时间，基板就涂上了光活性材料。使用常规光刻胶中使用的相同光照技术，当未曝光的部分被非活性显影剂冲走时，在光活性层中创建所需的图样。SRD CT-303中创建的图样范围为0.2至3.0微米，可用于创建电路线路小于1微米的掩模层。CT-303工具比竞争对手有几个优点。由于这种资产设计用于几种不同的基材，因此电阻器可以轻松地在有机材料、复合材料和氧化物材料上工作，从而无需根据材料在产品之间进行切换。该型号还具有出色的光学透明度，允许创建薄层和更精细的分辨率。总体而言，SRD CT-303是一个可靠和强大的光刻设备，能够创造复杂的模式到几微米。具有卓越的分辨率，令人印象深刻的传递比，以及暴露层和未暴露层之间的出色对比，该系统适用于许多不同的基材材料和应用。