二手 SSC BPE-2708-SP #9150877 待售

SSC BPE-2708-SP光敏系统是为高质量光刻应用而设计的。它是一种高度发达的液体光刻设备，具有优异的成像和图样传递特性。该系统采用深紫外化学放大的正工作光刻胶，设计用于各种基板，包括硅片。该装置结合了先进的化学和光刻制造技术，提供了优异的效果。BPE-2708-SP光敏机由液体光敏成分或PAG、aDeveloper、aSurfactant和aPolyol敏化剂组成。该工具设计为在作为一个整体过程一起使用时效果最佳。光活性成分PAG是一种非挥发性液体，通常与正光致抗蚀剂系统相关。由芳香族聚合物组成，并掺入液体介质中。PAG提供了卓越的图像分辨率和对深紫外线的灵敏度。开发人员设计用于遮蔽曝光区域,并将图像投影到基板上。有两种类型的显影剂，水性和溶剂基。水性显影剂采用酸性溶液，非常适合层压基板上的高分辨率图像。溶剂基显影剂使用碱性溶剂，建议用于高级蚀刻工艺。SSC BPE-2708-SP资产还利用表面活性剂使PAG溶解。这种表面活性剂帮助液体光刻剂平滑均匀地流动，以均匀的分辨率覆盖底物，并抵抗气泡的形成。溶剂致敏聚醇用于提高PAG暴露于显影剂时的溶解度。在光刻过程中，光刻胶在预定义的时间内，以预定的强度暴露于紫外线下。光活性成分被紫外线照射激活，发展过程开始在抗蚀层中产生所需的图样。底物完全暴露后，用水或酸性溶液洗涤。抗蚀层的可溶性物质被冲走，露出花纹。BPE-2708-SP光刻模型是高分辨率电路制造的优越工具。它结合了快速、高效的成像、卓越的灵敏度和出色的蚀刻特性，是许多制造要求的理想选择。这种光致抗蚀剂设备能快速、可靠地提供所需的效果,而且材料浪费极少。