二手 SSE Maximus 804 #293633410 待售
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ID: 293633410
晶圆大小: 2"-6"
Coater / Developer system, 2"-6"
Option: Resist syringe
(3) Media tanks: EBR, CD26 (Developer)
HMDS Station
(2) Hotplates
Cool plate
Video pre aligner
Proximity wafer handler on hotplate: 0 mm - 11 mm
Robot wafer handler
Coater: EBR and BSR
Maximum coating speed: 6000 RPM
Maximum developing speed: 6000 RPM
Developer: BSR
Developer nozzles:
Pray
Puddle
(2) Resist pumps:
SPR 700 1.2
AZ4533
Hot plate:
Temperature uniformity and control: +0.5°C at 100°C
Maximum temperature: 250°C
Cool plate:
Temperature uniformity and control: +0.5°C at 20-30°C
Spin process uniformity:
Photoresist uniformity (Across wafer): <15 Å (1 Sigma)
Photoresist uniformity (Wafer-to-wafer): <20 Å (1 Sigma).
SSE Maximus 804是一款可靠、用户友好的光敏设备，专为光敏材料在半导体和电子元件制造中的应用而设计。该系统能够准确地形成高长宽比特征。它利用先进的技术来产生高质量的图像，而不需要极其精细的细节。Maximus 804单元由三个主要组件组成：曝光装置、传输装置和开发装置.曝光装置以数字直接成像（DDI）机为基础，带有允许高速成像的Laser Diode阵列。传输装置便于通过光学或热印迹将图像传输到实际的光致抗蚀剂基板上。研制装置采用浸泡或喷雾工艺，可对各种光刻材料的成像结果进行优化调整。该工具能够使用各种光刻材料，并能够支持从微米到毫米的各种特征尺寸，以优化加工参数。它设计用于接触、步进、投影和深反应性离子蚀刻（DRIE）等各种光刻工艺。有了几种操作模式，如手动、半自动或全自动，资产允许用户选择最适合自己需求的模式。SSE Maximus 804车型也因其高品质的零部件和构造而具有很高的可靠性和耐用性。它具有最先进的基于微机电系统（MEMS）的光学组件,可抵抗机械冲击、过热和灰尘。该设备具有强大的控制器接口,非常适合工业环境,并确保在长时间使用时性能一致。总体而言，Maximus 804系统凭借其可靠的性能、先进的技术和广泛的操作模式，是各种光刻胶应用需求的理想选择。它可以产生高质量的图像,并确保高纵横比特征的精确形成.此外,它的用户友好型设计、广泛的选项和高可靠性使其成为满足小规模生产和大规模制造需求的有吸引力的解决方桉。
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