二手 SSE Maximus 804 #293651477 待售
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ID: 293651477
Coater / Developer system
Hot plates, 8"
Substrates: 6" x 6"
Cabinet
3-Axis robot
End effector vacuum standard, 4" -6"
Flat touch screen monitor
Computer
Ethernet interface
Cassette loading plate, 6"
Touchless video pre-alignment, 6"
Light tower: Red, yellow and green
Remote controller
Open bowl: 10,000 RPM
Acceleration ramp: 50,000 RPM
Spinning time: 0.1-999 Sec
Standard drain with 5I waste tank
High level sensor
Clean dry air pressure: 8 ±.2 bar
Vacuum: -0.8 ± 0.2 bar
Coater and developer module:
Bowl, 8"
Waste tank with high level sensor: 5 Litres
Chuck, 4"-6"
BSR Nozzle
Media valve
Tubing
Nozzle
(3) Dispense pumps: 15 ml
EBR Nozzle
Hot / Coolplate stacker module:
8-Slots
Nitrogen purge
Vacuum
Exhaust
Coolplate, 8"
(2) Hotplates, 8"
Temperature uniformity and control: +0.5°C at 100°C
Maximum temperature: 250°C
HMDS Vapor prime hotplate, 8"
Temperature uniformity and control: +0.5°C at 100°C
Maximum temperature: 200°C
CE Marked
Power supply:
3 x 208 VAC, 60 Hz, 32 A
3 x 400 VAC, 50 Hz, 32 A.
SSE Maximus 804是一款光刻设备，旨在为各种光刻和蒙版制作应用提供全面的解决方桉。该系统用于在制造半导体器件、印刷电路和其他微电子元件时将电路模式传递到基板或晶圆上。Maximus 804利用"传统"紫外线（UV）光致抗蚀剂单元，意味着它使用对紫外线敏感的化学涂层，导致在暴露于紫外线时形成图样。该机具有多种部件,可确保高效、准确的模式传输.它具有一个主工具控制器，负责所有组件的操作，一个用于精确放置用于处理的基板的对准资产，以及一系列用于各种应用的光刻胶选项。为了获得所需的图桉结果，必须实现掩模和基板的精确对齐。该模型利用对齐设备精确定位基板。对准系统能够使用数码相机单元和4轴机械臂的组合自动对准亚微米精度。该机还配备了光敏喷雾工具，利用专门设计的喷嘴将一层薄而均匀的光敏涂层涂在基板上。该资产具有高达24英寸的光刻胶输送范围，可用于石英、玻璃、硅和各种金属等多种基材。最后，UV曝光模型（UV Exposure Model）形成了一个图桉，利用激光源将光刻胶材料暴露在紫外线（UV）下，导致在基板上形成一个定义的图桉。UV Exposure Equipment能够产生尺寸可达36英寸的图样,并为各种抗性处理条件提供广泛的暴露强度。总之，SSE Maximus 804为各种光刻和蒙版制作应用提供了一种全面的光阻溶液。它具有一套现代化的组件，如对准系统、光刻喷雾装置和紫外线曝光机，都集成在一个工具中，使其成为光刻工艺的理想工具。
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