二手 STEAG Cluster 421 #9136000 待售

STEAG Cluster 421是一款光刻设备，设计用于大体积、高精度生产平面和圆柱形透镜，以及光电元件。它利用曝光资源来模拟各种类型的光学仪器特性，并利用光刻工艺在基板上创建不同的结构。群集421提供卓越的精度,其光斑尺寸为50 mm （1.97 in）。光致抗蚀剂系统设计用于容纳多种基板，包括无定形和结晶材料，以及所有类型的石英、玻璃和塑料表面。STEAG Cluster 421还支持各种不同表面形状的基板，非常适合复杂的光学制造。光致抗蚀剂单元包括一个打印头，可用于将光致抗蚀剂材料涂抹到基板上，以及显影机，可用于开发光致抗蚀剂材料。开发工具配置为以高开发速度提供高分辨率的结果，使其适合大批量生产。聚类421还包括控制曝光和开发过程的工具，使用户可以根据自己的具体需要定制光刻胶资产。例如,用户可以选择正确的曝光资源以确保获得最佳结果。光刻胶模型还具有控制显影剂溶液温度的能力，允许在开发过程中提高精度。综上所述，STEAG Cluster 421是专门为大批量生产光学元件而设计的光阻设备。它提供了极好的精度和速度，和光刻材料可以量身定制，以适应各种基材。此外，用户有能力控制接触和开发过程，确保取得最佳结果。