二手 SVG 81 #9302570 待售

SVG 81是为了使各种装置生产过程的性能而开发的光刻胶设备。该系统经过专门设计，允许在半导体晶圆材料如硅、砷、钨和多晶硅之间进行蚀刻、平面化和挖沟。81通过使表面的光刻胶层暴露于高度专业化的光源所产生的快速紫外线辐射中来操作。这种紫外线辐射作用于在光致抗蚀剂的分子中产生化学变化，使得构建不同厚度的层成为可能，以便在表面上实现所需的图样。在受到紫外线辐射后，晶片被转移到蚀刻室，在那里使用适当的蚀刻剂去除了交联程度较低的材料。一旦创建了所需的图样,将使用蚀刻后干洗步骤清除蚀刻过程中残留的残留物或颗粒。SVG 81单元还提供了在暴露的晶片上沉积平面化层以获得更均匀表面的能力。这使得产生更平滑的曲面和更可靠的设备成为可能。此外，81可以根据所施加的紫外线照射强度获得不同大小和形状的孔或沟槽。SVG 81机器由几个主要部件组成。这些组件包括光电阴极电源、光源、成像工具和环境控制。光电阴极电源用作产生光刻胶图桉所需的特殊紫外线辐射的电源。光源用于提供所需的紫外线辐射，而成像资产则控制整个晶圆上图桉的均匀性。最后,环境控制调整温度和密度.81型有多重优势。设备可靠、经济高效、节能。此外,该过程是非侵入性的,这意味着它不会从其他过程（如蚀刻和平面化）中消失。最后，SVG 81与广泛的晶圆材料兼容，使其成为广泛使用的系统。