二手 SVG 86 #9181739 待售

SVG 86是一种用于光刻微芯片设计和制造的"光刻"设备。为双层薄膜系统；第一层是对高能光源如紫外线（UV）或深紫外线（DUV）的暴露更敏感的光刻胶。第二层是反反射（AR）层，有助于减少或消除反射造成的失真。86单元由聚合物光致抗蚀剂的特殊组合组成。这种组合形成了一个复杂的抗蚀机，具有优于基材的附着力和高分辨率。组合不仅增加了影像的解析度，也降低了它对变数的敏感度，例如在光刻过程中经常出现的水分、温度和化学环境。SVG 86工具针对先进微电子器件的阵列进行了优化。因此,它使用可筛选的正反射和负反射的组合,以最低的灵敏度和反射率获得最高的分辨率。86光敏资产适合多种曝光源，包括ArF准分子激光和DUV准分子源。SVG 86模型的主要优点是即使在存在环境和物理变量，如水分、温度和化学环境的情况下，其高分辨率和低灵敏度也得以维持。这是由于设备中使用的抗蚀剂组合的特殊特性。另外，与其他抗蚀剂相比，86提供了更好的抗蚀剂与基板的附着力，以及改善了图案金属层的附着力。SVG 86系统还具有生产均匀薄膜轮廓的能力，特征高度低，CD变化小。均匀性有助于在纳米级创建一致的结构。抗蚀层与基板的附着力得到改善，有助于减少在下一个制图阶段剥落、剥落或开裂的风险。此外，86单元还可用于具有挑战性的"步进"应用，需要高介电值的高分辨率成像。图桉化层可以进行优化，以增加照明区域的通量，同时允许更清晰的特征和更好的图桉化。总体而言，SVG 86机器是一种高度先进的光刻刀具，设计用于生产精确的光刻微电路，具有良好的基板附着力和优良的特性和高分辨率。86由于结合了高度复杂的聚合物，是生产小型和高分辨率电子器件的可靠和经济高效的资产。