二手 SVG / ASML 90S #9032372 待售
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ID: 9032372
Coater / Developer track system, 8"
Wafer Size: 200mm, notched, System on floor
Right hand only unit
104” Stand-Alone Cabinet
2 Coat Modules w/chemical edge bead removal, 2 Develop
Modules, 6 Vacuum Back Ovens, 2 Vapor Prime Ovens, 3 chill
Plates, 1 OEBR Module
Photoresist Temperature control
Air Temperature and Humidity control(Coater and Developer)
Complete air recirculation environmental control over all modules
4 serial arms and 1 90SE serial arm
Floor is solid SS spill containment w/overflow sensors
Solid doors in front of gauges and flow meters
Control Module on CES, (left or right-integrated)
Interface is rear pull
208 volts, 3-phase 60Hz
Coater direct floor drain (Tee in cabinet)
Developer direct floor drain (Tee in cabinet)
Full clogged drain sensor on each coater
Full SEMI S2-93 Containment for solvent/pump drawer enclosures, bulkhead
Facility sensors for vacuum generators, DI water and
Caustic exhaust
SECS Communication Port
Millipore controller / resist pump upgrades
1997 vintage.
SVG/ASML 90S是由SVG开发的光阻设备，以具有竞争力的价格为半导体制造商提供卓越的性能和可靠性。该系统是一个全自动、高精度、计算机控制的曝光单元，使用可扫描的狭缝掩模，以便在微电子装置制造过程中能够将计算出的光学图样精确地转移到光阻表面上。该机采用专门设计的光源来曝光光刻胶，采用激光和电子束成像的可自定义组合。SVG 90S提供了出色的特征分辨率和控制,这是因为扫描狭缝掩模的精确度明确,可以针对不同的曝光级别进行调制,并能够补偿任何曝光变化。此工具还允许基板的背面偏置,从而影响特征临界尺寸（CD）和曝光纬度。ASML 90S由于其扫描运动和全铝层状镜而提供了高均匀性和可重复性，可用于从单点源引导多种剂量。它对扫描面罩和光源的可重复同步提供了CD和曝光纬度在各种基板形状和尺寸上的出色可重复性。资产还支持众多处理室，可以优化图像质量，降低颗粒和缺陷水平，提高整体产量。光刻胶模型的剂量精度是显着的，因为它能够补偿任何曝光变化，它的高分辨率源点，以及它的优化光源和腔室设计。总体而言，90S光刻设备凭借其计算机控制的曝光系统、广泛的剂量、高均匀性和可重复性以及优化的腔室设计，提供了卓越的可靠性和性能。其先进的功能使半导体制造商能够制造具有精确特性和受控基板响应的高质量集成电路。
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