二手 SVG / ASML 90S #9214756 待售

SVG/ASML 90S是由全球领先的半导体行业光刻系统提供商SVG开发的最先进的光刻设备。该系统旨在为深亚微米工艺提供一种可靠的晶片阵列设计方法。SVG 90S利用高精度和灵敏的激光曝光光敏抗性材料。借助可移动反射镜，投影光学单元将光致抗蚀层中的地形图样投射到基板上，这使得微观结构的创建具有很高的精度。为了达到足够的曝光均匀性，在投影仪机器内采用了一个内部反馈回路来连续测量实际曝光并进行相应的补偿。ASML 90S还配备了发射波长为193 nm的特殊氟化氙气（ArF）激光器。这种波长对于在深亚微米过程中有效地暴露抗蚀层是最佳的。此外,使用倾斜引导工具实现晶圆对准,该工具扫描基板的表面并立即将位置的数据传输回软件以调整其光束。为了提供与各种基板的无缝兼容性,90S还配备了全系列（未装载）盒式磁带、旋转卡盘和晶片处理附件,所有这些附件都使用了高精度连接（HAC）资产,允许更换无托。所有这些组件确保晶片从盒式磁带极精确地转移到曝光头。使SVG/ASML 90S在其他光刻系统中脱颖而出的是它提供了实时的打印性能分析。这确保了流程优化、集成的质量控制平台,并进一步降低了运行成本。除了更改参数外,其他功能还包括备份和恢复产品数据、保护配方和软件更新。SVG 90S是实现光刻精度更高的一个重要步骤，彻底改变了深亚微米工艺的模式。这种模式耗尽了最初的投资，提供了通用、可靠和具有成本效益的模式解决方桉，以推动更高效的生产和随后更高的产量。