二手 SVS CIE-DV3-028 #9364592 待售

SVS CIE-DV3-028是一种光刻光刻设备，用于在基板表面上产生纳米级结构、薄膜和其他图样。光致抗蚀剂是一种有机材料，它被涂在薄层中并暴露在光线下，从而引起化学反应，只去除或改变光致抗蚀剂的暴露区域。其余区域或图桉化特征构成了广泛的材料加工操作的基础。CIE-DV3-028是一种基于novolak的正光刻胶系统，由光刻胶、显影剂和显影剂增强剂组成。与其他光阻系统相比，基于novolak的光阻单元提供了卓越的分辨率、清晰度和图像保真度。该机针对193 nm、248nm以及其他DUV和EUV曝光波长进行了优化。SVS CIE-DV3-028工具利用专有酸化学提高分辨率。这允许具有较低（<1%）网桥宽度的较紧特征。此外，它是市场上最薄的光刻胶系统之一，经固化后厚度仅为0.2 μ m。这种特性改善了基板表面的发展均匀性，这对于高分辨率光刻工艺尤其有利。在工艺灵活性方面，CIE-DV3-028光致抗蚀剂资产可与湿法和干法结合使用。该模型还提供了改进的曝光后固化和热回流。由于设备便于重复蚀刻过程,因此用户可以期待出色的保护,以防止边缘珠子、空隙和污染。SVS CIE-DV3-028系统也很可靠；该设备强大的成像能力可在具有环境挑战性的条件下提供统一、可靠的阵列性能。这对于温度、湿度或其他处理参数具有高度可变性的情况是有利的。总体而言,CIE-DV3-028台机器提供了一系列高级功能,使其成为各种光刻应用的理想选择。该工具出色的分辨率和可靠的性能使其成为半导体工业发展纳米级模式和其他特点的可靠选择。