二手 TAKADA TWPS-064-TJ #9266615 待售

TAKADA TWPS-064-TJ是一种用于微电子和光电器件制造领域的负作用光阻系统。它具有优异的蚀刻性能和分辨率，适用于厚膜和薄膜光刻工艺。光致抗蚀剂由负作用酸设计的配方组成，允许在暴露于紫外线时在酸位点快速交联。此功能可对非常精细的图样进行高分辨率蚀刻,使其成为微电子设备制造的理想选择。这种光致抗蚀剂有糊状液体的形式，粘度高达1.4平衡度。它可以使用医生刀片、丝网或旋转涂层方法应用于基板。一旦将抗蚀剂施加到基板上，就可以使用反射面罩或非反射面罩将其暴露在紫外线下。暴露时，抗蚀剂的暴露区域由于酸基配方而发生快速交联，形成了具有优异抗蚀刻性能的聚合结构。这样可以确保在蚀刻过程中只会影响抗蚀剂的暴露区域。因此，可以实现高度精确和复杂的模式。曝光后，光致抗蚀剂需要开发和烘烤才能完成工艺。显影过程除去抗蚀剂暴露但未暴露的区域，烘烤过程确保酸基反应完整，除去光致抗蚀剂多余的溶剂和未接触的组分。TWPS-064-TJ是一个可靠和高效的光刻胶系统，为精确和复杂的图样提供卓越的蚀刻阻力。利用其基于酸的配方，为各种微电子和光电器件的制造提供了可靠和可重复的结果。糊状液体使用医刀、丝网或自旋涂层方法很容易涂抹在基板上。然后，它可以暴露在紫外线下，经过开发和烘烤，以获得可靠和可重复的结果，实现复杂和高分辨率的模式。