二手 TAZMO Semix #293597130 待售
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TAZMO Semix是一种用于半导体晶片蚀刻和制图工艺的光刻设备。它由两个主要成分组成：光敏涂层及其发展过程。光致抗蚀剂是应用于晶片的化学溷合物，通常使用自旋涂料。光刻胶涂层包含一种光敏剂，会暴露在光源下。暴露导致抗蚀剂发生化学变化，可用来制造图样。开发过程如下，其中抗蚀剂用显影剂进一步处理，未暴露于光线的区域被移除。通过光敏涂层和开发过程的结合，与其他方法相比，工程师能够以更高的效率在材料上精确地制作图样。Semix光致抗蚀剂采用丙烯酸基制剂，具有高性能光活性化合物和专有有机通量添加剂的独特溷合物。这种专有配方提供了优越的蚀刻阻力和锐利的边缘清晰度比其他光刻在市场上。TAZMO Semix光致抗蚀剂系统拥有成本低、性能优越，是晶圆制造工业的理想选择。该单元还在多种半导体材料中提供了出色的附着力和柔韧性。Semix光致抗蚀剂具有优异的拱形性能，能够有效地保护底层材料，同时能够以分辨率和准确性传递图样。TAZMO Semix光刻胶涂层具有优良而宽广的钝化、清洁度和无空性能。它还含有一种专利的水基溶液，有助于低温开发和清洁过程。该机设计用于多种基材，包括氧化硅、氮化硅、石英、氧化铝等。最后，Semix光刻胶系统还提供有效的工艺后蚀刻保护，并且具有广泛的敏感性。该工具非常适合低成本地处理诊断、测试和其他高度关键的应用程序。TAZMO Semix具有广泛的敏感性和定制选项,是制造任何类型半导体产品的理想选择。
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