二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9105213 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是半导体产业内光刻工艺中使用的光刻系统。它是一种气相沉积技术，用于将一层薄薄的光敏材料沉积到硅或玻璃等基板上。该技术的工作原理是将液体单体、敏化剂、固体填料和稀释剂结合在一起，形成一种光敏材料悬浮液。然后通过喷雾器或通过自旋涂层技术将这种悬浮液施加到基板上。一旦光敏涂层被保证是均匀的，它被固化，使其附着在基板上。一旦光致抗蚀剂层固化并粘附在基板上，材料就对辐射敏感。TEL ACT 12使用较低紫外线能量的短脉冲，通常以内置激光源的形式，引起光致抗蚀剂暴露于活化辐射源。基板的底层图样现在作为一个掩模来确定抗蚀剂显影的成像分辨率。光致抗蚀剂是利用化学发展过程开发的，该过程将光致抗蚀剂的可溶性区域改变为不溶性区域。此外，可以根据光刻工艺的需要使用正负光刻胶。TOKYO ELECTRON ACT12是半导体加工中常用的一种图桉化层几何形状和特征的方法。这允许将预定义的图像以可以准确可靠地复制的方式传输到半导体上。它也常用于过程诊断，例如在光刻过程中检查图桉的对齐方式。ACT 12过程能够精确控制模式保真度。使用这种技术可以创建复杂的图像，特别是在与光学光刻相结合的情况下。该工艺还能够制造非常薄的薄膜，抵抗各种类型的辐射、热量和化学物质的暴露。此外，就减少挥发性有机化合物（VOC）排放而言，该工艺提供了一种环保的光致抗蚀剂系统。总之，TEL ACT12光刻系统为精确制作光刻图桉提供了可靠有效的方法。它耐用，耐辐射、耐热和耐化学物质，确保在加工过程中模式保持机智，并且在挥发性有机污染物排放方面提供了一种环保的选择。