二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9112122 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是一种光阻设备，用于先进的半导体器件制造工艺。该系统利用高速、高分辨率的无掩码对准器，提供光刻胶、抗反射层和其他半导体器件制造用材料的精确图桉。TEL ACT 12的核心是其高速、高分辨率的无掩模对齐器。该对准器采用集成空间光调制器（SLM）与物镜相结合，以0.8 μ m或更大的曝光分辨率精确绘制光刻材料图样。SLM包含数以千计的可单独寻址的反射元件，可以调制激光束以快速准确地获取图像。光刻胶的精确图桉允许亚微米特征定义复杂的多层结构。TOKYO ELECTRON ACT12单元还配备了晶片装载机和温度控制，以确保光刻胶层的均匀曝光。晶片装载机将晶片固定在电动传送带上，并将其精确定位在对准机中。温度控制使用集成冷却单元，以确保光刻胶保持在正确的温度下进行曝光。ACT12还配备了自动缺陷检测工具，可以检测光刻层的缺陷，如针孔、划痕和空隙。该工具的高级处理算法分析光刻胶层并识别缺陷,以便工程师能够在继续设备制造过程之前快速轻松地识别和解决这些缺陷。最后，TOKYO ELECTRON ACT 12资产能够处理各种用于半导体器件制造的光敏材料。它还与各种曝光过程兼容,如直接写入、步骤&重复和步骤&扫描。该模型可用于广泛的设备应用，如MEMS设备，并可与电子束光刻等其他系统集成，以进一步提高设备的复杂性。