二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9142701 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是一种为关键装置製造过程而设计的光敏设备。它是一种化学气相沉积（CVD）工具，用于将薄层的光致抗蚀剂沉积在基片上。该过程首先将晶片加载到系统上，然后将晶片对准并传输到真空室中。该腔室装有一个电子-Asist源（EAS），它产生一个电子束来激活一个气体-相反应的光致抗蚀剂沉积。该单元还配备了测量纳米粒子薄膜特性的微粒子图像信号处理（Microparticle Image Signal Processing，简称MISP）机，以及电子回旋共振（Electron Cyclotron Resonance，简称ECR）装置，有助于保持沉积过程的稳定气氛。ECR进一步有助于减轻由于室内外部和内部的压力差异而导致的室内等离子体不稳定性。气体反应器随后将适当的光致抗蚀剂和反应物气体溷合物引入工艺室。光致抗蚀剂暴露在电子束和气相反应下，在所有晶片上形成均匀的薄膜层。使用旋转监视器控制薄膜层的厚度，该监视器允许在任何给定旋转角度下精确的脉冲持续时间。此工具提供卓越的安全标准、监控系统和一系列旨在提供高质量薄膜层的组件。广泛应用于先进的光刻和蚀刻工艺，如纳米压印、胶带转移、半导体沉积和封装，可与多种光刻材料配合使用。它具有单次处理多达600mm晶片的能力，非常适合大容量设备制造过程。TEL/TOKYO ELECTON TEL ACT 12是一种可靠且先进的CVD资产,能够快速高效地生产高质量的薄膜层。它用途广泛，能够加工各种光致抗蚀剂材料，确保它可以在各种设备制造过程中使用。因此,对于希望以成本的一小部分生产具有可靠薄膜层的精密元件的设备制造商来说,它是必不可少的工具。