二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9152987 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是由半导体工艺技术的全球领先者TEL设计的光阻设备。该系统为制造商提供了一个强大的平台,可以准确地绘制下一代设备所必需的最困难的3D结构。TEL ACT 12单元将先进的光刻技术和工艺与全面的光掩模和基板监测/控制相结合。该平台配备了两台模式发电机，包括主、从模式发电机。主图样发生器配备了12英寸椭圆偏光计，可以对具有高保真图像的抗蚀剂进行成像。主、从模式发生器连接到数据处理单元，对曝光进行综合控制和监控。数据处理单元负责向模式发生器传送所需的曝光参数，以及监控曝光参数。TOKYO ELECTRON ACT12具有产生具有卓越曝光均匀性和稳定性的图像的能力。这个平台可以处理厚度低至10nm的光刻胶，使其适合先进的装置製造，例如FinFET。机器的架构还配备了自动对焦和水平（AFAL）以及微调对焦能力，确保了最佳图像对比度。该平台支持非化学放大（NCA）抗蚀剂和标准湿抗蚀剂工艺，从而实现高分辨率和精确度。它还允许单层或多层曝光，以及在需要特殊抗蚀剂特性的应用中使用自旋元件（SOC）材料的能力。TEL/TOKYO ELECTRON ACT12具有高度直观的用户界面，简化了工具的操作，减少了必要的设置时间。自动基板温度控制和曝光监控等功能为用户提供了曝光参数符合规范的保证。此外，该资产还配备了故障检测模型，用于捕获和存储与基材、掩模和接触参数有关的数据，这些数据可能会导致无法接受的模式。TEL ACT12为制造商提供了一个可靠的光刻平台，以最精确的方式生产出要求最苛刻的微观结构。强大的模式发生器、自动化系统和过程监控相结合,保证了将胶片曝光至10 nm厚的最佳性能。这种设备是先进半导体制造的绝佳工具，因为它具有很高的精度和控制水平。