二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9163162 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12光致抗蚀剂设备是为基板加工而开发的半自动系统。它被用于LED器件制造过程，如掩模图桉、接触孔形成、蚀刻后清洁等。主要用于半导体器件制造、液晶面板制造、微膜制造、医疗器件制造、光学元件制造等应用。TEL ACT 12单元设计用于在玻璃、塑料、金属等基板上提供高度均匀的光敏涂层。它配备了具有精确涂层技术和多行工艺精度的高速工艺头。该机还提供湿法加工、预烤和曝光后烘烤装置的优异性能。该工具具有极灵活的实时过程参数调整系统，具有高精度温度和大气控制。将基材加热至指定温度，以便在晶片上进行精确的抗蚀涂层。真空卡盘用于保持晶片与涂层光学器件齐平。测量涂层的变化，使涂层膜保持均匀。涂层流体随后从纺纱涂料中施加，并由高速分流轮干燥至均匀的薄膜厚度。该资产可以对各种晶圆直径和厚度最大为80mm的光刻胶进行高精度和均匀性的应用。曝光后烘烤过程遵循光掩蔽过程，以促进抗蚀剂薄膜与晶片的良好粘合，并最大限度地减少显影和蚀刻过程中的抗蚀性失真。光刻胶经过光学设计，可以在低背景曝光剂量下为光刻工艺提供更高的灵敏度。晶圆通过带有TOKYO ELECTRON ACT12模型的照片蒙版曝光，以曝光所需的特征。对于短曝光时间和高分辨率模式,这种情况发生在微秒的时间范围内。然后在显影剂中开发光致抗蚀剂，以暴露晶片不相容的部分，然后进行蚀刻。然后由一个分拆轮拆卸已开发的零件。然后通常使用等离子体、湿化学或激光去除方法对抗蚀剂进行剥离,以实现精确的图样化。TEL ACT12光刻设备提供了出色的光刻和处理均匀性，从而提高了制造LED器件的产量。该系统还提供了晶圆阵列制作过程中的灵活性和精确控制，使其成为制造各种设备的理想解决方桉。