二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9164111 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是一种设计用于蚀刻和开发薄膜电子设备的光阻设备，如集成电路（IC）、液晶显示器（LCD）和发光二极管（LED）。它利用快速、高精度的光学成像过程来创建动态模式和结构。该系统具有强大的光刻技术，即使在最复杂的设计上也能产生准确和可重复的结果。光刻装置由一个专门的照相机、两层显影室、两个预烤室、一个自旋涂层机和一个旋转曝光室组成。相机工具使用特种镜头捕捉并数字化增强基板上的感光材料。然后,这些图像将用于生成光图样以蚀刻所需的设计。两层显影室用于涂抹光敏材料。在这里，抗蚀剂可以应用自旋涂层、电喷或丝网涂漆的方法，有助于精确控制涂层的厚度和均匀度。然后将光致抗蚀剂在两个预烤室内干燥，在那里可以调节温度和时间，以达到最佳的膜粘附。旋转的曝光室随后将基板暴露在相机产生的精确光学图样中。一旦完成，基板被转移到显影室进行加工。然后使用液体或气体浴液除去光致抗蚀剂，只在基板上蚀刻所需的设计。最后，这之后是清除残留物的清洗过程，基材准备使用。TEL ACT 12光致抗蚀剂资产为蚀刻电子产品提供了精确、可重复的制造工艺。此模型有助于减少与手动方法相关的代价高昂的错误,并显着提高流程一致性和吞吐量。此外,即使在复杂复杂的设计上进行处理,此设备也有助于确保可靠的结果。