二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9216584 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是由TEL Ltd开发的高性能光刻胶设备。它使用深紫外线进行光刻曝光，然后由系统的光学对准和组装处理。这样,通过更高的分辨率成像和工艺一致性,尤其是与顶级曝光单元结合使用时,曝光时间会更快。光致抗蚀剂单元利用多层光阻材料，通过有选择地吸收和喷射层中的光，形成所需的图样。在TEL ACT 12中，液膜形成的光致抗蚀剂充当多级抗蚀剂堆栈的第一层。然后将这层薄膜暴露在光线下，以光刻光刻剂内的分子聚合物链。这种曝光过程保留了所需的图桉，同时掩盖了胶片中那些没有暴露在光线下的元素。一旦曝光，光刻胶层与二次曝光材料发生化学反应。曝光材料，通常是电子束，充当蚀刻剂，进一步细化光刻胶层中的图样。此过程允许更精细的分辨率成像、改进的蚀刻控制以及对蚀刻深度的更高程度的控制。此外，电子束可以同时精确、快速地蚀刻多层光刻胶。最后，利用显影剂化学方法进行后冲洗，完成了光刻胶层的开发过程。这种冲洗可以去除光致抗蚀剂层中任何剩余的未暴露区域。这种后显影过程有效地在光刻胶层中只留下所需的图桉。除了其更高的分辨率外，TOKYO ELECTRON ACT 12的曝光和蚀刻工艺提供了更广泛的曝光范围和更高的曝光精度。总之，TEL ACT12是由TOKYO ELECTRON Ltd开发的一种高性能光致抗蚀器。它具有更高的分辨率成像和过程均匀性,能够更快地曝光时间。该工具结合深层紫外线、电子束曝光和后显影显影剂化学，利用多级抗蚀堆，在光敏层中精确、快速地制作和开发出所需的图样。此外，这种光刻胶资产提供了更大的曝光范围和更高的曝光精度。