二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9235798 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是为了在半导体晶圆上形成微细和超细细节图样而设计的光阻设备。它基于光化学原理，利用光通过化学反应将某种化合物转化为不同形式。TEL ACT 12的核心是一个电子枪光学曝光系统，用于精确控制光化学驱动反应中使用的光量。该曝光单元利用半导体晶圆与电子束结合，以及包含必要图样的光掩模，以便将图样转移到晶圆上。电子束以阵列方式穿过晶圆，可以设置为发送不同强度水平。百叶窗位于晶片的前面，以允许不同强度的水平通过。除了电子枪光学曝光机外，TOKYO ELECTRON ACT12还有一个晶圆稳定工具，用于确保晶圆在成膜过程中保持稳定。该资产利用位于晶圆前面的膜传递级，以便在曝光过程中支撑它，从而实现精确的厚度控制。它还包含一个温度控制模型，该模型调节晶圆温度，以确保均匀的薄膜形成。整体设备吞吐量高，能够在包括、4"、6"、12"在内的各种尺寸的晶片上形成模式。此外，TEL ACT12提供了支持多种抗蚀膜的灵活性，包括正负光抗蚀剂，以及SU-8和SU-8XL抗蚀剂，此外，曝光系统能够形成复杂的细节，包括10微米的线条和空间，并且可以达到高达150 nm的分辨率。该单元还针对低颗粒生成进行了优化，非常适合在洁净室环境中使用。TOKYO ELECTRON ACT 12是一款高度先进和高效的光刻机，为用户提供了在半导体晶圆上创造高度精确和复杂细节所需的灵活性和准确性。它具有很高的吞吐量，也是用户友好的，使其成为任何光刻胶应用的理想选择。