二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9237246 待售
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TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是一种光致抗蚀剂设备，利用成像和图样技术来创建纳米级结构。该系统利用射束光学器件，能够将宽度约0.1微米的聚焦光束投射到半导体晶圆上。这种光是用来蚀刻图样到光刻材料，这将形成结构在纳米级。TEL ACT 12提供了短焦距和高光数值孔径的组合。该装置还采用了一种正在申请专利的激光成像工艺，用于纳米级制图。这一过程使用了高度聚焦且发散极低的激光束，从而允许在纳米尺度上实现异常分辨率。该机还提供了一种先进的控制工具和用于模式优化的高级编辑工具，大大提高了半导体器件的生产。该平台以高精度提供模式优化，允许按照芯片的确切规格构建纳米级结构。TOKYO ELECTRON ACT12还具有高度先进的基板对准资产，为光刻胶结构的受控放置提供了高精度。这样可以精确地将结构和元件放置在晶片上，也可以减少纳米级结构对准或像差的误差。该型号还配备了先进的成像设备。TEL/TOKYO ELECTRON ACT12中使用的光学系统能够以15纳米的分辨率投射图像，从而能够监测纳米级结构的制造过程。最后,TEL ACT12提供了一个高度可靠和可重复的工作流过程。该单元由高度可靠的Terapro引擎提供动力，该引擎能够控制整个工作流进程。Terapro引擎为每个成像步骤提供了准确可靠的事件序列,从而确保了一致和可靠的成像过程,从而减少了生产过程中的错误。
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