二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9239681 待售

TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12
ID: 9239681
Coater Track configuration 1: Coat cup (2) Developer cup ADH Track configuration 2: Resist reduction: RRC Dev nozzle: H Nozzle Resist pump: 10ml RDS Oven configuration: (2) PHP (4) CPL (5) LHP Track chemicals Resist supply: Gallon bottle, coat bottle Thinner: OK73.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是为了先进的半导体生产而设计的先进光刻设备。该系统集成了光刻过程的两个关键组成部分;旋转涂层和喷涂涂层。旋转涂层在均匀层中对晶片施加光致抗蚀剂,而喷涂涂层则将光致抗蚀剂喷洒在由抗蚀剂图样指定的晶片区域上。TEL ACT 12单元对光刻胶的应用进行精确的控制,从而能够更快地生产产量较高的复杂电路。TOKYO ELECTRON ACT12机主要有两个组件:自旋涂层和喷涂涂层.自旋涂层采用高精度涂层头,以均匀的图桉将光敏气体输送到晶片表面,确保抗蚀剂均匀施用。此外,旋转涂层能够以不同的速度旋转,以确保在不规则形状和弯曲的晶片上均匀分布。喷涂涂层在抗蚀剂图样所指示的位置将光刻胶喷洒到晶片上。这款喷涂涂料配有内置喷嘴,能够产生细小甚至液滴的喷雾图桉,能够在所需位置沉积精确量的光致抗蚀剂。TEL ACT12工具还配备了多种功能,旨在使光刻工艺更快、更高效。自旋涂料和喷涂涂料的机械精度允许更多的晶圆在一个循环中进行加工;每个周期最多15个晶圆。此外,该资产还具有一个先进的模型,用于在应用过程中控制抗蚀剂的温度和湿度,减少涂抹或照明不良的风险。最后,设备包括一个计算机化的监测系统,能够不断监测每个周期的结果,使用户能够准确预测每个周期的结果,并根据需要进行调整。TEL/TOKYO ELECTRON ACT12单元是大体积半导体生产的理想工具。旋转涂料和喷涂涂料的精确度,以及为监测光刻工艺而设计的创新功能,使得ACT 12成为一台强大可靠的光刻机床。
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