二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9247862 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是一款由TEL（TOKYO ELECTRON）开发的光阻设备。它旨在实现半导体晶圆、基板和其他表面上电路、图样和其他元素的可重复、可靠和精确的制造。该系统使用光刻技术将图样传递到半导体晶圆或基板上，通常用于微电子电路、集成电路（IC）和其他设备的处理。TEL ACT 12光致抗蚀剂单元包括三个主要组件：掩模对准组件、开发单元和曝光控制器。"掩模对齐器"组件包括"掩模支架"和"标线对齐器表",该表将光掩模或标线保持并对齐到基板上。开发股用于抗蚀剂薄膜的曝光后处理，其中包括为接触曝光和开发、剥离和/或烘烤准备基材。曝光控制器控制并监控曝光过程。Mask Aligner组件使用CCD（电荷耦合设备）相机,以确保在光掩码或标线上精确对准和定位图样。它配备了环境传感器和实时位置反馈，以确保准确的晶圆级配准。发展股由湿加工站、干加工站、烘焙站组成。湿式站设有热敏传感器，确保温度控制准确，并确保抗蚀膜研制正确。干站使用真空卡盘来固定基板并控制暴露参数。烘焙站采用加热器和温度控制，确保抗蚀膜均匀烘烤。曝光控制器负责控制和监控曝光过程。曝光时间、强度、波长等曝光参数可由曝光控制器精确控制。它还为端到端过程控制和优化提供实时反馈。用户还可以保存配方以备将来使用,从而允许操作员多次运行相同的曝光过程,而运行之间只需稍作更改。TOKYO ELECTRON ACT12光刻机为半导体晶片和基板提供了一种可靠、可重复、精确的图样化方法。该工具可实现高密度模式和精确的接触配准,从而提高电路性能。该资产还可用于工艺优化和提高产量，提高成本效率和整合光刻工艺。