二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9251329 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是为先进的光刻应用而设计的高性能光刻设备。光致抗蚀剂是用于半导体加工的最重要的单一材料，TEL ACT 12被开发出来提供了最高的性能和重复性。TOKYO ELECTRON ACT12设计为提供精确控制的光刻涂层，在整个晶圆上均匀。它是一个模块化系统，可以配置为匹配任何给定应用程序的需求。该单元的核心部件包括两个用于光刻涂层的沉积室、一个自旋漂洗干燥机、一个烤箱、两个涂层后清洁站和一个专用的十端口盒式装载机。TEL ACT12利用各种先进技术来确保高精度的光敏沉积。其中包括可编程沉积头、激光干涉仪反馈机、温控干燥、自旋冲洗干燥以及用于精确涂层控制的自动TEL光学工具。该资产还具有高精度的五级晶片真空卡盘设计，以确保精确和一致的结果。TOKYO ELECTRON ACT 12能够每小时涂覆高达4,000晶圆，并且可以配置为容纳各种不同厚度的光敏膜。ACT 12的设计是为了确保出色的后涂层清洁，有两个内置的清洁站。这些腔室经过专门设计，可有效清除薄膜残留物和其他表面污染物，而后涂层烤箱则可清除涂层过程中残留的任何材料和污染物。TEL/TOKYO ELECTRON ACT12配备了TOKYO ELECTRON ADVANCED软件，允许手动和程序化控制所有型号参数。该软件允许精确控制光刻胶沉积，并能够存储和分析多次运行的数据。ACT12是一种先进的光刻设备，旨在为光刻应用提供可靠、精确和可重复的结果。其高性能特点，包括可编程沉降头、激光干涉仪反馈系统、温度控制器、自旋漂洗干燥机、自动光学单元、五级晶片真空卡盘、后涂层清洁等，保证了优异的效果。利用TEL/TOKYO ELECTRON高级软件，可以对所有涂层参数进行控制和分析。