二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9271250 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是一种光致抗蚀剂设备，用于半导体制造行业内的蚀刻、沉积和清洗过程。它是一种先进的技术，可以准确控制表面薄膜层的蚀刻。TEL ACT 12使用户能够以高分辨率、高长宽比和最小的光敏残留物精确地绘制、绘制和蚀刻微特征。TOKYO ELECTRON ACT12包括一个工具架、一个操作控制台、一个专用光圈控制单元和一个激光照射系统。前两个组件允许用户控制设备以及相应地监视和调整参数。专用孔径控制单元（SACU）负责确保微观结构的最高分辨率。它通过使用紧密集成的激光束、快门和光学器件来实现这一目标。通过调整激光束大小、光束形状、焦点大小和位置，机器能够以尽可能小的特征大小准确地生成所需的图样。激光照射工具旨在有效地蚀刻高长宽比的微型材，并且具有最小的光致抗蚀剂残留物。这是通过结合计算机控制的激光模式发生器和外部调制的激光光学资产来完成的。TEL ACT12旨在运行不同的进程。沉积过程允许用户在表面上沉积具有所需特征的薄膜，而蚀刻过程有助于在基板上精确蚀刻图样。模型还可以在蚀刻过程后执行停用过程（清洁基板表面）。TOKYO ELECTRON ACT 12是一款用途极为广泛的光刻设备。它能够创造出与各种不同基板兼容的超精细特性,同时始终取得卓越的效果。这些特点，加上简单的面向用户的操作，使其成为微加工行业中蚀刻、沉积、清洗过程的理想选择。