二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9281479 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是一种用于半导体基板加工的光阻设备。它能够执行各种各样的过程，包括溅射、离子注入、晶圆清洁、蚀刻等等。系统使用光活化的化学反应来塑造晶圆的表面。它旨在生产具有高密度特性的高精度薄膜设备。TEL ACT 12单元结合了光刻和等离子体蚀刻的优点。光刻技术是一种通过将材料暴露在辐射源上来绘制材料表面图样的技术。辐射对暴露区域造成化学变化，允许制造精细图桉。等离子体蚀刻是利用等离子体环境蚀刻目标材料表面的过程。这两个过程的结合使得TOKYO ELECTRON ACT12能够以高精度和精确度创造出错综复杂的纳米尺度特征。ACT 12的光致抗蚀层被应用到晶圆的表面，并暴露于包含所需图桉的掩模。一旦卸下掩模，就会使用单独的光源（通常是UV或E-beam）直接成像图样。然后使用一种特殊的涂层来保护光致抗蚀层，并允许控制晶片的蚀刻。接下来，将机器加热至高温，以激活暴露的光致抗蚀剂层的化学反应。图桉化反应产生了一层留在晶片上的光刻胶薄膜。剩下的光致抗蚀剂可以用适当的溶剂除去。最后,该工具可用于前面提到的任何过程,如溅射或离子植入,以创建所需的模式或设备。整个过程由TOKYO ELECTRON ACT 12提供的软件资产控制，保证整个过程的质量控制。总之，TEL ACT12是一种先进的光致抗蚀剂模型，可以创建高度精确和复杂的纳米尺度特征。它结合了光刻和等离子体蚀刻技术，能够生产用于一系列应用的敏感设备。系统提供的软件设备允许对过程进行完全控制，并确保整个过程的质量控制。