二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9290661 待售
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ID: 9290661
晶圆大小: 12"
优质的: 2002
Coater / (2) Developer system, 12"
Track 1:
Single block
ADH
Track 2:
Resist reduction: RRC
Developer nozzle: H Nozzle
RDS Resist pump: 10 ml
Oven:
(3) CPL
(7) LHP
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
2002 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是一种由TEL开发并由世界各地的各种分销商销售的光致抗蚀剂设备，是一种成本效益高但先进的蚀刻系统，主要设计用于半导体加工。该装置通过控制光刻胶的沉积，能够精确地在基板上制作复杂的图样。光致抗蚀剂是一种光敏材料，应用于半导体元件和其他类似材料，通过蚀刻或沉积额外的层来构造它们。TEL ACT 12机器设计为用户友好,并提供广泛的工艺功能,以适应各种工艺,如接触光刻、旋转涂层、掩模对准和后处理步骤。该工具包括几个功能强大的硬件功能,以确保准确的过程控制。其中包括光刻胶供应资产、晶圆处理模型、图样发生器、激光对准和自动对焦机构。整体设备特点是工作区域大，行驶精度高，精度高。光刻胶供应系统是单元的心脏，并且允许在基板上一个一致和均匀的光刻胶涂层。它还能够根据用户的需求来调整光刻胶层的厚度。晶圆处理机提供了基板的精确移动和定位，而图样生成器使用户能够定义要蚀刻的图样。激光对准特性保证了图桉的精确放置，自动聚焦机制确保整个晶片暴露在相同水平的紫外线照射下。此外，TOKYO ELECTRON ACT12工具包括一个直观的软件控制程序，允许对过程序列进行简单的管理和编程。这使资产成为自动化制造操作的理想选择。软件具有内置的流程参数库,可根据流程需求进行自定义。它还包括安全功能,可提醒用户注意流程中的任何错误或问题。总体而言,TEL ACT12模型对于任何需要具有先进工艺能力和易用性的经济高效光刻设备的人来说都是绝佳的选择。系统强大的硬件功能确保了过程控制的一致性和准确性,而其直观的软件控制程序可实现平稳的操作和维护。
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