二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9351398 待售
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ID: 9351398
Coater system
(8) RRC Pumps
(2) Pump I/O board
Load port board
Load port CONN board
Load port DC / DC CONV board
Controller: Type 3
Spin motor: PANASONIC Motor
AC Power
Chemical box
(2) T & H ME2 Temperature controllers.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是一种利用高能电子束曝光光敏膜的光敏设备。然后使用光刻胶制造各种纳米精度的电子器件和器件。该系统利用直写电子束光刻（DWEL）单元的特性来曝光光刻膜。该机器使用电子枪，该电子枪使用发射电子的特殊灯丝构成。产生的电子通过高压电场通过喷枪加速，产生高能电子束撞击光敏膜。电子束的能量使用能量分析仪监控，该分析仪也可以控制电子束。系统能量范围为10至600 KeV，光斑大小为50nm至0.5 μ m。电子束曝光是跟随一个光动曝光，它包括控制束电压和电流，它的光斑大小，以及曝光的持续时间。此外，该工具能够通过控制电子束的电流密度和位置来精确控制暴露剂量，从而使图样的几何形状和特征得到准确和均匀的暴露。光致抗蚀剂膜采用两步沉积工艺，采用标准的光致抗蚀剂自旋涂覆在膜上，然后选择性地暴露于电子束中。完成此操作后,将开发暴露区域,并将其用于制作电子元件的图案。此外，光致抗蚀剂资产的性质允许更高的空间分辨率，保留制造的电子元件的复杂细节。该模型适合于构造很小的电子元件，得益于电子束的高能量和较小的光斑尺寸，使得制造过程中具有更高的分辨率和精度。此外，该设备有一个预编程模板，用于记录和存储以前建造的电子设备的模式，从而便于检索和制造设备。因此，该系统适用于量子点制造和纳米结构等应用。单位的成本也是合理的，使其成为那些希望生产小型电子元件的人的诱人选择。
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