二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9359297 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是一种为高精度光掩模生产而设计的光阻设备，具有高通量和高度精确的临界层图样。它是一种基于高保证、可编程传输模式光刻（TML）工艺的自动光刻系统。TEL ACT 12利用四柱扫描单元进行晶圆级的X-Y运动，并利用高精度的线轴和垂直轴级在Z方向进行基板定位。这种轴的组合使机器能够用于从预烤到曝光后烘烤的光刻过程。此外，TOKYO ELECTRON ACT12实现了几种先进的技术来实现稳定的图样和高分辨率打印。一种"柱束耦合"工具确保产生的激光由于独立的驱动轴控制而均匀分布。此属性有助于在整个视场中保持统一的成像。此外，该资产还包括四个独立的光束对准机制，可最大限度地减少由光路波动和晶圆坐标不匹配引起的像差。安装了两个6KS扫描仪以同时进行晶片扫描。这样可以将长宽比降低到最大10,从而实现高面积吞吐量。此外,该模型还利用Z方向的高精度垂直扫描级来实现晶圆平面的精细聚焦调整,从而有助于保持晶圆上曝光剂量的均匀性。它还实现了一个高精度的编码器伺服驱动机构，以尽量减少成像误差，这意味着实现了高度精确和可靠的模式。此外，TEL/TOKYO ELECTRON ACT12由于TEL独特的"全方位相位（PARaDs）"技术而实现了极好的晶圆到晶圆的重复性。多亏了这项专利技术，即使晶片在平面度上各略有不同，同样的成像条件也可以全部应用。总之，ACT 12是一种高端光刻光刻设备，利用几项先进技术，提供高通量、高精度的图样，以及优异的晶片到晶片的可重复性。结合高度精确的基板运动阶段和独立的光束对准机制，能够在光掩模生产过程中产生优异的效果。