二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9364744 待售
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ID: 9364744
晶圆大小: 12"
优质的: 2004
(4) Coater / (4) Developer system, 12"
Wafer type: Notch
Right to left
Loading configuration: (3) Uni cassettes
Cassette type: FOUP
Inline
CSB
PRB1
PRB2
IFB
AC Power box
(2) Chemical boxes
Main controller
25-Slots
Coater unit (2-1, 2-2 Modules):
(4) Dispense nozzles with temperature controller lines
RDS Pump
PR Suck-back valve: (8) Auto suck-back valves
Manual drain
Programmable side rinse: CCSS Thinner supply
BCT Unit (2-3,2-4 Modules):
(2) Dispense nozzles with temperature controller line
RDS Pump
PR Suck-back valve: (4) Auto suck-back valves
Rinse system: 3-Liters (2) buffer tank systems
Manual drain
Programmable side rinse:
Thinner supply: CCSS
Developer unit (3-1, 3-2, 3-3, 3-4 Modules):
NLD Nozzle / Unit
(2) Stream nozzles for DI rinse
2-Points for back side rinse
Developer system: 3-Liter (2) buffer tank systems
Developer supply: CCSS
Developer temperature controller
Direct drain
ASML I/F Wafer stage
Temperature Control Unit (TCU)
(2) Chemical cabinets
T and H Controller missing
Power supply: AC 208 V, 3 Phase
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12光刻设备是半导体器件制造的领先系统之一。这个系统是为了开发和生产用于製造半导体器件如CPU、GPU、记忆体和其他元件的薄膜而设计的。它提供了高级设备集成所需的精确薄膜处理,并具有微调薄膜形成的高性能功能。TEL ACT 12单元配备了用于光刻图样的强大电子束和用于薄膜精确定位和图样的高精度曝光级。利用独特的双光束制图机（DBMS），该工具能够提供高水平的均匀性和精确度。DBMS能够同时检测和分析整个样品区域的电子束剂量分布，提供薄膜图样的高分辨率视图。TOKYO ELECTRON ACT12还具有用于优化模式生成的高精度阶段和多重模式算法,以及用于监测和诊断暴露状况的强大软件。该资产支持各种光敏材料，并能够处理复杂结构的不同模式。该模型还支持一系列其他选项,包括热控制、多轴对齐和元件保护。ACT12光刻设备具有精确度、性能和先进的特点，是高端半导体器件制造的理想解决方桉。该系统提供了最高水平的性能和准确性，使设备制造商能够生产市场上最好、最先进的半导体器件。它还提供极低的拥有成本,使其成为任何生产环境的理想选择。
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