二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 SOG #9105809 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 SOG（Sub-Micron Optical grating）是一种最先进的光刻设备，专为制造亚微米特性而设计。利用先进的光栅技术，将高达20nm的高分辨率图样传输到半导体晶片表面。然后使用光致抗蚀剂来创建亚微米结构、线和间隙，用于设备制造。TEL ACT 8 SOG具有产生极高解析度特徵的能力，能够将深度为20nm的图样精确地再现到半导体晶圆上。这样就能够以极高的精度生产出极精确的元件。这是成功生产高密度存储器芯片和NAND存储器等半导体器件的关键，这些器件需要高分辨率光刻才能产生超短分量宽度。该系统采用长寿命、高功率的激光源提供尽可能高分辨率的照明，并结合高动态范围CCD相机和闭环对准单元，使光刻胶精确对准晶片。通过这种设置,可以以最高的精度和清晰度生成图样。光刻机具有先进的多层补偿模块，利用光学衍射模型精确调整和校正光栅设计，使其能够产生极浅角度和形状的图桉。可以调整模式，以便在优化模式以满足设备制造过程的特定需求时进行校正。TEL ACT 8工具还具有防反射涂层模块，有助于减少反射光的干扰，允许更高的对比度和更锐利的侧壁，以生产更好的分辨率装置。资产还利用先进的无掩码操作来控制光刻胶的图样。此功能使它无需任何掩码即可产生模式,从而大大减少了过程时间和复杂性。总体而言，TOKYO ELECTRON ACT 8 SOG是一种先进的光刻胶模型，能够以极高的精度，甚至极浅的角度和形状结构生产高分辨率器件。这种设备可以大大减少工艺时间和成本，有助于大大提高半导体元件的质量。