二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9122207 待售

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TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8
已售出
製造商
TEL / TOKYO ELECTRON
模型
ACT 8
ID: 9122207
晶圆大小: 8"
优质的: 2001
(2) Coaters SOG system, 8" Wafer type: Notch Signal tower: ETC (3-lamp) Main controller version: Version #2 Software version: N/A Inline: No DUV (chemical filter): No Manual operation: No Cassette block: Normal type (TEL STD) Process block: Single block SOG Coater: 2-3, 2-4 High hot plate (HHP): 2-13, 2-14, 2-21, 2-23, 2-24 Low hot plate (LHP): 2-11, 2-21, 2-12 Chill plate (CPL): 2-5, 2-9, 2-15, 2-17 Transition stage (TRS): 2-8/2-7 TCP Thinner chemical supply: CCSS (2 buffer tank) (1) AC Power box (1) Cup temp/humi: ESA-2S-T-01 (1) Temperature controller: INR-211T-24 (2) pumps, (4) CPL (1) Chemical cabinet Missing / Damaged parts: LCD DC Power supply 2001 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一种光致抗蚀剂设备,结合了先进的技术使其能够在光刻系统中使用。光致抗蚀剂系统对于在晶圆和数码相机镜头等基板上创建微观结构非常重要。这个光刻单元允许以极高的精度在晶圆或透镜上形成这些微结构。TEL ACT 8由几个重要组成部分组成。其控制机集成了强大的可编程逻辑控制器(PLC)技术。这控制了应用光刻胶所需设备的操作顺序。它还监视光刻胶的暴露水平。所使用的自动化技术非常精确,可以精确地调整所涉及的过程。TOKYO ELECTRON ACT 8具有内置的计算功能,以确保其输出的准确性和可靠性。它可容纳多达192个步骤的光致抗蚀剂曝光。这使得高定制曝光光刻胶既精确又可靠。该工具还提供多种内存模块,存储容量最多为8Mb。这样就可以全面存储暴露数据以及其他必要的信息。光刻胶系统进一步配备了尼康/Vistion专有的薄膜测量算法。此功能可确保精确测量暴露情况,从而提高所涉及过程的总体准确性。TEL ACT 8还具有独特的芯片和两个16位高速处理器。这增强了资产的能力,并有助于在可靠性和准确性方面优化芯片的性能。谈到安全,TOKYO ELECTRON ACT 8配备了故障安全模型。此功能很重要,因为它可确保设备不会因意外事件而发生故障。安全功能有助于减轻操作过程中可能发生的任何严重问题或故障的可能性。总体而言,ACT 8是一种先进但直观的光刻设备。它提供了一定的精确度,鼓励在多种情况下灵活使用它。所采用的先进技术有助于提高光刻胶系统的准确性,从而实现高质量的输出。
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