二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9127707 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8光刻设备是微电子工业中那些需要精确纳米级光刻制造的设备的强大工具。该系统设计用于在各种基板上蚀刻薄电子元件。该单元可以精确蚀刻尺寸低至400纳米的特征，非常小。通过使用光掩模保护晶片免受电阻光的影响，机器可以精确地定义基板上的元素。TEL ACT 8光刻工具主要包含三个组件：晶圆处理程序、统一数字微镜设备（DMD）和专有的二维（2D）成像软件。晶圆处理程序是资产的主要组成部分，负责安全地处理晶圆基板。它配有热卡盘以保持恒定温度，以确保整个基板均匀蚀刻。此外,晶圆处理程序还具有具有自动扫描和z高度扫描模型的特殊光学元件。统一DMD是用于编程掩码的高级组件。它包括两个独立的组件-透明光学组件和二维成像组件。第一个元件在纳米精度下提供极快的分辨率，而第二个元件在曝光时保证相位聚焦稳定性。这一机制确保了基材的均匀、精确的蚀刻。TOKYO ELECTRON ACT 8光抗蚀剂设备的最后部分是专有的2D成像软件。此软件可使用microlITHO脚本实现精确的成像-这是一个功能强大的工具,用于为设备设计和改进掩码。它还具有自动校正功能，可以在成像和蚀刻过程中调整图像，以保证完美的设计。与以前的系统相比,TEL ACT 8光阻系统具有许多优势。凭借其纳米级分辨率和自动化成像能力，该单元非常适合纳米级光刻和生产超薄元件和基板。这使得机器成为各种材料上生产微电子的强大工具。而且，其专有的二维（2D）软件允许精确成像和microlITHO脚本，以保证完美的设计。