二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9127709 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一种用于半导体工业的光阻设备。光致抗蚀剂是对光敏感的材料，以液体或薄膜的形式施加在基板上。当受到紫外线辐射时，它们形成一种聚合物，可以在基板上形成均匀的蚀刻图样，然后可用于多种不同的应用，如照相光刻、掩蔽、薄膜沉积等等。TEL ACT 8是一种先进的光刻胶系统，提供可靠和可重复的结果。该单元以其高分辨率的能力而闻名，确保了整个基板的精确和一致的模式。光刻机可用于多种应用，包括需要高分辨率和高长宽比的，在半导体器件上工作时可能很重要。TOKYO ELECTRON ACT 8工具提供了旨在提供最高分辨率的过程控制。光掩码用于指定曝光区域,然后在所需位置进行光阻。借助ACT8，光阻曝光精确、均匀，即使曝光不均匀。资产还有一个内置扫描仪，以协助光刻胶的对准。ACT 8光刻胶模型是许多半导体公司信赖的，因为它可以提供高质量的产品，具有可重复的结果和可靠性。它已被证明是生产用于半导体生产的小型复杂特性的有效和可靠的设备。此外,系统的设计考虑了环境保护,并采用低功耗组件构建。TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8单元对于需要高分辨率和可靠结果的半导体公司和工程师来说是另一个有用的工具。它提供了更高的准确性和可重复性，使其成为在半导体器件上生产小巧细腻特性的绝佳选择。