二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9142704 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一种光阻设备，用于制造电子器件，如集成电路（IC）、显示面板和微机电系统（MEMS）。该系统基于图样传输技术，用于在基板表面创建精确图样。它由一个数字面膜写入器、曝光单元、光刻胶、显影剂、蚀刻剂和电镀单元组成。该单元优化了工艺流程，简化了光刻工艺。数字蒙版写入器用于创建将转移到基板上的蒙版模式。然后从紫外线光源或电子束光源（EBS）光源照射此掩模。光线的强度可以调整以允许不同深度的曝光。曝光装置的设计提供了高精度和可重复性的模式传输。它包含一个精密的遮罩，以及高对比度的照明器和可调节的UV照明器，给用户对曝光过程的终极控制。光致抗蚀剂是一种专门为吸收辐射和改变其特性而设计的聚合物。它在暴露于适当的紫外线波长或EBS时会变成可溶性。当达到所需的曝光水平时，光致抗蚀剂准备在显影剂中清洗或浸入，以去除任何未暴露的区域。显影剂是用来蚀刻和塑造基板表面的溶液。显影剂需要不断维护和监控，以确保光刻胶不会过度暴露。然后使用蚀刻剂切割、成形和光滑基板。它通过去除基板上的任何裸露区域起作用。可以对蚀刻工艺进行调整，精确地达到所需的宽度和深度。最后，电镀单元可用于在基板上任何裸露区域添加金属或合金涂层。涂层被涂在一个单一的裸露区域，以达到所需的形状和大小。总之，TEL ACT 8光抗蚀机是在基板表面创建精确图样的理想工具。它有一个可快速轻松地创建掩模图样的数字掩模写入器、一个可调节的UV/EBS光源以实现所需的曝光深度、一个用于确保图样正确曝光的光刻级、以及一个用于添加所需涂层或合金层的显影剂蚀刻和电镀级。这种全面的工具允许快速、准确和可靠的模式传输,以确保设备外观完美。