二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9142708 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8（TEL/TE TEL ACT 8）是由TOKYO ELECTRON（TEL/TOKYO ELECTRON）开发的光刻胶设备。该系统是为利用曝光和开发过程制造高质量集成电路而设计的。该单元由一系列物理元件组成，包括超高频扫描仪、能源和基板支架。该扫描仪用于将一定曝光波长的高强度光束对准和引导到基板支架上。光束再由电场等离子体（E-F-P）控制器调制，允许光阻层的精确且可重复的曝光。基板支架设计用于在曝光过程中保持基板层和光致抗蚀层。其设计目的是将E-F-P控制器引起的基板加热效果降至最低。最后，机器还配备了多项安全功能，如紧急停止开关，允许操作员在紧急情况下自动停止该过程。TEL/TE TOKYO ELECTRON ACT 8光致抗蚀剂工具极为精确且高度可靠。它能够以0.18微米的分辨率产生相对较大的图样，如标准电池，特征尺寸为0.25微米。这样可以实现电路的高密度集成,并使其成为内存和微处理器等高级产品的理想选择。此外,该资产的像素对像素失真率非常低,为0.5%,可确保在较长时间内保持模式精度。TOKYO ELECTRON/TE ACT 8在同一模式上编程多次曝光的能力进一步提高了这种失真率。综上所述，TOKYO ELECTRON ACT 8是一种高度可靠的光刻胶模型，提供精确的模式和电路的高密度集成。其特点包括通过E-F-P控制器调制光源，最小基板加热，像素对像素失真率低。这种设备是制造先进集成电路的绝佳选择。