二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9145487 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一种光刻（化学活性）设备，设计用于辅助生产集成电路。该系统利用感光化学物质或光致抗蚀剂在半导体基板表面上创建精确的图像。光致抗蚀剂是一种感光材料，含有对光有反应的化学物质。TEL ACT 8单元包括光刻涂层模块、对准模块和UV曝光光源。光敏涂层模块用于在晶片表面上均匀铺展光敏，以创建一层适合后续曝光成像过程的层。对准模块安装在显微镜台上，包含多个晶圆对准机构。对准机构引导晶片进入某些位置以进行适当的成像。紫外线曝光光源也安装在显微镜阶段。它利用UV光来暴露光致抗蚀剂，激活化学反应并产生将被转移到下面底物的图样。此光源能够创建特征大小小至5 nm的高分辨率图像。光刻胶一经曝光，便使用处理模组来开发影像。这个模块蚀刻掉未曝光的光刻胶，露出下面的图桉。成像过程完成后，进行进一步的处理步骤以完成电路。这可能包括烘烤、蚀刻和沉积。TOKYO ELECTRON ACT 8机高度可靠，处理速率高达每小时180晶圆。此外,它还能够产生低至5 nm特征大小的阵列。该工具广泛应用于半导体制造，以生产高屈服率的高性能电路。